浙江大学ACS Nano:新型倍半硅氧烷光刻胶实现高灵敏度与稳定性!
随着摩尔定律推动晶体管不断微型化,极端紫外(EUV)光刻技术已成为实现亚7纳米节点制造的关键技术,其独特的亚20纳米直接图案化能力备受瞩目。然而,为了匹配先进的EUV技术,开发满足国际器件与系统路线图(IRDS)目标的光刻胶至关重要,这些目标包括8-16纳米分
随着摩尔定律推动晶体管不断微型化,极端紫外(EUV)光刻技术已成为实现亚7纳米节点制造的关键技术,其独特的亚20纳米直接图案化能力备受瞩目。然而,为了匹配先进的EUV技术,开发满足国际器件与系统路线图(IRDS)目标的光刻胶至关重要,这些目标包括8-16纳米分
LEXAN™ EXL4419-739 是沙伯基础(SABIC)推出的9%-10% 玻纤增强硅氧烷共聚物型聚碳酸酯树脂,以 “-45℃超韧耐寒 + 玻纤强化刚性 + 易加工” 为核心标签,属于注塑级改性工程材料。其通过硅氧烷共聚物结构突破低温性能瓶颈,叠加玻璃纤